供應(yīng)科研高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材(Ir) Iridium 銥靶銥板銥片材料和背板綁定服務(wù)
產(chǎn)品名稱: | 銥靶、鉑靶、鈀靶、銀靶、銠靶 |
牌號(hào)規(guī)格: | Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1 |
用途 : | 主要用于磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽能及平面顯示等領(lǐng)域。 |
產(chǎn) 品 詳 情
隨著靶材在磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽能及平面顯示等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,我們加大在稀貴金屬靶材研發(fā)和制備方面的投入力度,通過原料控制、真空感應(yīng)熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結(jié)、熱等靜壓、放電等離子體燒結(jié)等不同工藝, 并采用嚴(yán)格的質(zhì)量控制過程,我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。
另外我們?yōu)榭蛻籼峁┿~背板與銥靶材的綁定服務(wù)技術(shù)(Bonding),由純銦作為中間的焊接材料使用銅底板與靶材緊密的結(jié)合,有利于靶材表面溫度的快速散掉,提高靶材的使用率。
銥濺射靶材Iridium (Ir)
規(guī)格尺寸:
形狀 | 圓形、方形 |
尺寸 | Φ50~170mm |
厚度 | 3~15mm |
純度 | ≥3N5 |
注:具體尺寸請(qǐng)聯(lián)系銷售。
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銥靶材(Ir)Iridium
一:高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材(Ir),即銥靶,作為一種卓越的高科技材料,以其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),在多個(gè)行業(yè)中展現(xiàn)出無可比擬的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。銥靶材以其高純度著稱,通常純度可達(dá)99.99%甚至更高,這意味著它幾乎不含有任何雜質(zhì),從而確保了電流傳遞的高效性和穩(wěn)定性。這種高純度特性使得銥靶材在電子束蒸發(fā)、濺射鍍膜等高科技領(lǐng)域成為不可或缺的關(guān)鍵材料。
我司深耕靶材領(lǐng)域十年,專注研發(fā)與生產(chǎn),鑄就行業(yè)精品。所生產(chǎn)單材質(zhì)靶材如下:
SINGLE ELEMENTS 單材質(zhì)靶材、電子束蒸發(fā)顆粒 | |
Aluminum (Al) | Nickel (Ni) |
Antimony (Sb) | Niobium (Nb) |
Arsenic (As) | Osmium (Os) |
Barium (Ba) | Palladium (Pd) |
Beryllium (Be) | Platinum (Pt) |
Boron (B) | Rhenium (Re) |
Cadmium (Cd) | Rhodium (Rh) |
Carbon (C) | Rubidium (Rb) |
Chromium (Cr) | Ruthenium (Ru) |
Cobalt (Co) | Selenium (Se) |
Copper (Cu) | Silicon (Si) |
Gallium (Ga) | Silver (Ag) |
Germanium (Ge) | Tantalum (Ta) |
Gold (Au) | Tellurium (Te) |
Hafnium (Hf) | Tin (Sn) |
Indium (In) | Titanium (Ti) |
Iridium (Ir) | Tungsten (W) |
Iron (Fe) | Vanadium (V) |
Lead (Pb) | Yttrium (Y) |
Magnesium (Mg) | Zinc (Zn) |
Manganese (Mn) | Zirconium (Zr) |
Molybdenum (Mo) |
二、特性概述:
1、在物理性質(zhì)方面,銥靶材展現(xiàn)出極高的熔點(diǎn),高達(dá)2454℃,遠(yuǎn)超大多數(shù)金屬。這一特性使得銥靶材在高溫環(huán)境下仍能保持優(yōu)良的物理和化學(xué)穩(wěn)定性,成為許多極端條件下工作的理想選擇。此外,銥靶材的密度達(dá)到22.56 g/cm3,具有較高的抗拉強(qiáng)度和硬度,進(jìn)一步增強(qiáng)了其在各種應(yīng)用中的穩(wěn)定性和耐久性。
2、在導(dǎo)熱性能方面,銥靶材同樣表現(xiàn)出色。其高效的熱量傳遞能力和出色的熱穩(wěn)定性,使得在高溫條件下,銥靶材能夠保持較低的熱阻,確保熱量快速而均勻地傳遞,有效防止了熱量的積累和散失。這一特性在電子、航空、核能等領(lǐng)域的應(yīng)用中尤為關(guān)鍵,為設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行提供了有力保障。
三、行業(yè)應(yīng)用優(yōu)勢(shì):
銥靶材在行業(yè)中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)顯著。在科研領(lǐng)域,銥靶材被廣泛應(yīng)用于制作科學(xué)儀器、熱電偶、電阻線等,其高純度和穩(wěn)定的物理性能為科研實(shí)驗(yàn)提供了高質(zhì)量的薄膜材料。在燃料電池和光伏器件領(lǐng)域,銥靶材的優(yōu)良導(dǎo)電性和耐腐蝕性使其成為這些領(lǐng)域的理想材料,有效提升了設(shè)備的性能和壽命。此外,銥靶材還廣泛應(yīng)用于高溫裝置、觸點(diǎn)材料等工業(yè)領(lǐng)域,其高熔點(diǎn)和耐腐蝕特性使得在極端工作條件下仍能保持穩(wěn)定的性能。
總的來說,高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材以其高純度、高熔點(diǎn)、優(yōu)異的導(dǎo)熱性能和穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì),在多個(gè)行業(yè)中展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用前景和不可替代的優(yōu)勢(shì)。隨著科技的不斷發(fā)展,銥靶材的應(yīng)用領(lǐng)域還將不斷拓展,為更多高科技產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)提供有力支持。