中國四佳半導體材料公司　莫運籌　 國內現行的常規西門子法生產多晶硅的工藝中, 減少工藝物料消耗的重點部位是在SiHCl3 合成工序中如何提高硅烷中SiHCl3含量和減少氯硅烷氣的冷凝損失; 在氯硅烷的氫還原工序中如何減少還原尾氣中硅烷的深冷回收損失和如何提高還原綜合回收率的問題。這樣可再挖掘潛力, 使目前國內最好水平的硅粉和液氯消耗再減少20% —25% , 氫氣消耗有望達到12Nm 3ökg。