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公司基本資料信息
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供應科研高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材(Ir) Iridium 銥靶銥板銥片材料和背板綁定服務
產品名稱: | 銥靶、鉑靶、鈀靶、銀靶、銠靶 |
牌號規格: | Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1 |
用途 : | 主要用于磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等領域。 |
產 品 詳 情
隨著靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展,我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度,通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝, 并采用嚴格的質量控制過程,我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。
另外我們為客戶提供銅背板與銥靶材的綁定服務技術(Bonding),由純銦作為中間的焊接材料使用銅底板與靶材緊密的結合,有利于靶材表面溫度的快速散掉,提高靶材的使用率。
銥濺射靶材Iridium (Ir)
規格尺寸:
形狀 | 圓形、方形 |
尺寸 | Φ50~170mm |
厚度 | 3~15mm |
純度 | ≥3N5 |
注:具體尺寸請聯系銷售。
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銥靶材(Ir)Iridium
一:高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材(Ir),即銥靶,作為一種卓越的高科技材料,以其獨特的物理和化學性質,在多個行業中展現出無可比擬的應用優勢。銥靶材以其高純度著稱,通常純度可達99.99%甚至更高,這意味著它幾乎不含有任何雜質,從而確保了電流傳遞的高效性和穩定性。這種高純度特性使得銥靶材在電子束蒸發、濺射鍍膜等高科技領域成為不可或缺的關鍵材料。
我司深耕靶材領域十年,專注研發與生產,鑄就行業精品。所生產單材質靶材如下:
SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒 | |
Aluminum (Al) | Nickel (Ni) |
Antimony (Sb) | Niobium (Nb) |
Arsenic (As) | Osmium (Os) |
Barium (Ba) | Palladium (Pd) |
Beryllium (Be) | Platinum (Pt) |
Boron (B) | Rhenium (Re) |
Cadmium (Cd) | Rhodium (Rh) |
Carbon (C) | Rubidium (Rb) |
Chromium (Cr) | Ruthenium (Ru) |
Cobalt (Co) | Selenium (Se) |
Copper (Cu) | Silicon (Si) |
Gallium (Ga) | Silver (Ag) |
Germanium (Ge) | Tantalum (Ta) |
Gold (Au) | Tellurium (Te) |
Hafnium (Hf) | Tin (Sn) |
Indium (In) | Titanium (Ti) |
Iridium (Ir) | Tungsten (W) |
Iron (Fe) | Vanadium (V) |
Lead (Pb) | Yttrium (Y) |
Magnesium (Mg) | Zinc (Zn) |
Manganese (Mn) | Zirconium (Zr) |
Molybdenum (Mo) |
二、特性概述:
1、在物理性質方面,銥靶材展現出極高的熔點,高達2454℃,遠超大多數金屬。這一特性使得銥靶材在高溫環境下仍能保持優良的物理和化學穩定性,成為許多極端條件下工作的理想選擇。此外,銥靶材的密度達到22.56 g/cm3,具有較高的抗拉強度和硬度,進一步增強了其在各種應用中的穩定性和耐久性。
2、在導熱性能方面,銥靶材同樣表現出色。其高效的熱量傳遞能力和出色的熱穩定性,使得在高溫條件下,銥靶材能夠保持較低的熱阻,確保熱量快速而均勻地傳遞,有效防止了熱量的積累和散失。這一特性在電子、航空、核能等領域的應用中尤為關鍵,為設備的穩定運行提供了有力保障。
三、行業應用優勢:
銥靶材在行業中的應用優勢顯著。在科研領域,銥靶材被廣泛應用于制作科學儀器、熱電偶、電阻線等,其高純度和穩定的物理性能為科研實驗提供了高質量的薄膜材料。在燃料電池和光伏器件領域,銥靶材的優良導電性和耐腐蝕性使其成為這些領域的理想材料,有效提升了設備的性能和壽命。此外,銥靶材還廣泛應用于高溫裝置、觸點材料等工業領域,其高熔點和耐腐蝕特性使得在極端工作條件下仍能保持穩定的性能。
總的來說,高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材以其高純度、高熔點、優異的導熱性能和穩定的化學性質,在多個行業中展現出廣泛的應用前景和不可替代的優勢。隨著科技的不斷發展,銥靶材的應用領域還將不斷拓展,為更多高科技產品的研發和生產提供有力支持。